常滑窯業技術センター
ガラス基板の種類と遷移金属材料を変えたセラミックスコーティング材料を作製し、X線照射により着色し、可視光透過率10%以下となる結晶化ガラスやセラミックスコーティング膜を得た。そして、着色条件であるX線照射の条件、脱色条件である加熱温度と時間を最適化し、着脱色の濃度差が20%以上となる条件を見出した。さらに、簡単なマスクを用いたパターンニング方法も確立した。
[独立行政法人科学技術振興機構シーズ発掘試験]
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