レーザ回折・散乱法粒子径分布測定装置(レーザ回折・散乱装置)

仕様

・測定原理：レーザ回折・散乱法
・測定範囲：0.02～2,000μm（132ch）
・光源：半導体レーザ（【波長】780nm 【出力】3mW 【本数】3本）
・分散液：水、有機溶媒
・必要試料量(目安)：0.05～2g

概要

水または有機溶媒に分散させた試料粒子にレーザ光を照射したときに起こる、光の回折・散乱現象を利用した粒子径分布測定装置です。回折・散乱光の角度及びその強度は、粒子の大きさと関係性があり、光強度分布パターンを調べることにより、粒子径分布を求めます。なお、一般に測定には試料の屈折率データが必要です。

設置機関

あいち産業科学技術総合センター　産業技術センター 三河窯業試験場

測定事例

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試験・分析材料

セラミックス、カーボンブラック、二次電性材料、化粧品など

試験・分析内容

粒度

お問い合わせ先

あいち産業科学技術総合センター　産業技術センター 三河窯業試験場
電話：0566-41-0410